四氟化碳

产品介绍

四氟化碳，又名四氟甲烷，化学式为CF4，分子量为88.004，它既可以被视为一种卤代烃（有机物），也可以被视为一种无机化合物，常温常压下为无色无味气体，不溶于水，溶于苯和氯仿。高浓度时有麻醉作用。其高纯气及其配高纯氧气的混合气，是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体，也可作为低温制冷剂、低温绝缘介质。化学稳定性及热稳定性均好，对许多试剂呈惰性，在1000℃下不水解。常温下不与铜、镍和钨反应。由于C-F键的化学稳定性极强,因此以CF4为代表的全氟烃可认为是基本无毒的。

产品用途：四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子体蚀刻气体，广泛用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。由于化学稳定性极强，CF4还可用于金属冶炼和塑料行业等。

常见工艺路线

工业上四氟化碳的合成主要采用氟碳直接合成法，这种生产工艺的优点是原料易得、反应可控、产物纯度高。该方法已实现工业化生产，产品纯度高达99.99%以上，可满足电子工业的需求，已成为工业上制备四氟化碳的最主要方法之一。

市场发展趋势分析

四氟化碳（CF4）又称四氟甲烷，具有较好的溶氧性，其高纯气及其配高纯氧气的混合气是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体，广泛用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。

目前我国半导体工厂的四氟化碳50%来自于日本，国内华特气体、南大光电、昊华科技、雅克科技、中船重工718所等企业均在积极布局氟碳类气体，四氟化碳的需求将会显著增加，2021年大陆四氟化碳需求量将超过3000吨，2025年有望超过8000吨。

根据新思界产业研究中心发布的《2021-2025年高纯四氟化碳行业深度市场调研及投资策略建议报告》显示，我国电子信息产业不断发展壮大，叠加光伏产业规模不断扩张，国内市场对高纯四氟化碳需求持续增长。2011-2019年，我国高纯四氟化碳需求量年均复合增长率为14.6%，2019年需求量约为3660吨。我国人工智能、物联网市场仍在不断扩大，光伏发电累计装机容量不断上升，预计2020-2025年，我国高纯四氟化碳市场需求将继续以10.0%以上的增速增长

随着芯片制程向7纳米迈进，细微杂质对芯片的损害更为明显，电子产业对高纯电子气体的纯度要求进一步提高，在此背景下，我国高纯四氟化碳生产技术与产品质量仍有提升空间。2020年6月，黎明化工研究设计院有限责任公司“高纯四氟化碳和六氟化硫研发与中试”子项目通过了国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备与成套工艺”的现场测试与评审，其制备出了5.8N高纯四氟化碳。由此可见，我国高纯四氟化碳产品性能还在不断进步，引领行业发展的企业更具发展前景。