电子化学品（三）：这些产品需要重点关注！

一、中国急需高端光刻胶和自主化供应能力

光刻胶被称作电子工业的画笔，虽然只占到半导体晶圆制造成本的5%，但是它是电子工业核心原料，其技术壁垒对于半导体工业的发展具有较大影响。

光刻胶可以分为半导体用光刻胶、显示面板用光刻胶、PCB电路板用光刻胶，不同应用领域所使用的光刻胶不同。

目前行业内关注较高的为半导体用光刻胶，分为G线光刻胶、I线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶、EUV光刻胶，不同光刻胶对应不同波长，其中EUV光刻胶适应7nm及以下半导体应用，也是目前最为先进的光刻胶，被应用在高端手机芯片、AI服务器、数据中心半导体等领域。

目前全球光刻胶市场中，日本占据了绝对领先地位。其中EUV光刻胶日本产品的市场份额达到100%，KrF光刻胶日本市场份额达到95%，ArF光刻胶日本市场份额达到87%，G线光刻胶和I线光刻胶日本市场份额也达到了88%。对中国市场来说，EUV光刻胶、ArF光刻胶和KrF光刻胶一直严重供应不足，这也是中国企业重点关注的产品和方向。

图1 日本光刻胶全球市场份额

光刻胶制造可以拆分为树脂、感光剂、溶剂和添加剂四大类，其中树脂又被称为光刻胶骨架，约占到光刻胶制造成本的40%-60%。G线光刻胶中树脂主要是线性甲酚甲醛缩合树脂，由甲基酚和甲醛在酸性条件下聚合，决定胶膜粘附性和抗蚀性。感光剂主要是1,2-萘醌二叠氮磺酸酯，主要作用是曝光后分解为羧酸，大幅提高曝光区在碱性显影液中的溶解度。溶剂主要是丙二醇甲醚醋酸酯，另外还有环戊酮、乳酸乙酯等产品。添加剂主要是邻苯二甲酸二丁酯和对羟基苯甲酸酯类，可以提高光刻胶的柔韧性和稳定性。

I线光刻胶树脂主要是高纯度酚醛树脂，其纯度要比G线树脂高，感光剂主要是DNQ-5型和三嗪酮类化合物，溶剂与添加剂与G线相同。KrF光刻胶树脂主要是聚对羟基苯乙烯及其衍生物，光敏剂主要是三芳基锍盐、二芳基碘鎓盐、肟酯类、磺酸酯类等，溶剂主要是高纯度PGMEA（丙二醇甲醚醋酸酯）、叔胺类化合物和有机硅氧烷类等产品。ArF光刻胶树脂主要是甲基丙烯酸叔丁酯、环烯烃-马来酸酐共聚物等，光敏剂主要是金刚烷基锍盐、全氟烷基磺酸酯类等，溶剂和添加剂主要是超高纯度PGMEA等。EUV光刻胶树脂主要是聚对羟基苯乙烯及衍生物树脂、聚碳酸酯衍生物树脂等，光敏剂主要是PAG等，溶剂与添加剂主要是超纯PGMEA等。

在光刻胶原料构成中，其中PGMEA树脂自给率已达到60%以上，但是高纯PGMEA自给率不足30%，超纯自给率不足5%。另外，其他特殊溶剂、超纯溶剂等产品，中国几乎完全依赖进口，产品的定价和供应话语权都在国外手中，这可能也是国内相关企业和科研院需要重点技术攻关的方向。

二、中国高端电子特气产品仍存在巨大缺口和市场机会

电子特气被称为芯片制造的"气体维生素"，是电子行业的重要原料之一。电子特气分为了普通电子气体、稀有气体、掺杂/沉积气体、光刻配套气体、含氟特气、硅基/氯基特气等。除了普通电子气体中国的自给率最高，其他电子特气的自给率均处于较低水平，国产化率不高，是我们要重点关注的方向。

稀有气体包括氦气、氖气、氪气、氙气等，其中氦气用于半导体冷却气体，主要被应用在EUV光刻胶领域，进口依存度超过80%。氖气作为光刻混合核心气体，进口依存度超过90%。氪气和氙气是高端光刻、激光器等产品的关键气体，进口依存度超过80%，以上这些稀有气体都严重依赖进口。

掺杂/沉积气体中，主要是磷烷、砷烷、硼烷等产品，这些产品进口依存度均超过90%，严重依赖进口，部分产品中国尚无规模化装置。含氟特气领域中，主要是三氟化氮、六氟化钨、六氟丁二烯等产品，其中三氟化氮国内有多套工业化装置，但仍存在不足，进口依存度也达到了65%左右，六氟化钨进口依存度超过80%，国内企业均小批量供应，六氟丁二烯国内进口依存度超过8985%。中国企业正在加速推进，2030年前后进口依存度有望快速下降。

硅基/氯基特气领域中主要是电子级硅烷、四氟化硅、高纯氯气等，其中电子级硅烷中国进口依存度超过70%，国内企业仅有少数小规模装置在产。四氟化硅进口依存度超过60%，虽然国内已实现规模化生产，但仍未降至安全依赖水平。高纯氯气用于半导体领域中，主要是99.999%纯度，目前南大光电已实现规模化生产，该产品进口依存度大幅下降。

图2 电子特气领域进口依存度对比

三、湿电子化学品逐步向差异化方向发展

湿电子化学品被称为芯片制造的"清洗剂与蚀刻剂"，是电子行业必不可少的产品之一。根据纯度不同，湿电子化学品可以分为G1到G5，其中G1属于工业级产品，G5属于超高纯产品，半导体行业多用G5级别左右，电子工业会使用G3及以上级别。

按照湿电子化学品的不同属性，在高纯酸类产品中，电子级氢氟酸、电子级硫酸电子级硝酸、电子级磷酸是典型产品，这些产品进口依存度均超过50%，其中电子级硝酸甚至达到80%以上，高端制程的湿电子化学品，几乎全部依赖进口。而在高纯碱类湿电子化学品中，高纯氨水进口依存度超过85%，主要用于半导体清洗，国内很少有企业的产品可以达到G5级别。电子级氢氧化钾进口依存度超过70%，主要用于显影原料，国产品级别不高。电子级醇醚酯类产品完全依赖进口，国内尚无规模化生产能力，这也是中国企业需要重点关注的方向。电子级NMP目前有不少企业在产，但是G5级别进口依赖度仍达到90%以上，主要作为光刻胶剥离使用。